一種CVD化學(xué)氣相沉積法制備石墨烯薄膜專用支架
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202220182852.7 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN216838170U | 公開(kāi)（公告）日 | 2022-06-28 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN216838170U | 申請(qǐng)公布日 | 2022-06-28 |
| 分類號(hào) | C23C16/26（2006.01）I;C23C16/458（2006.01）I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 郝振亮;蔡金明;陳其贊;黃文添 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 廣東墨睿科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 東莞科強(qiáng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 523000廣東省東莞市道滘鎮(zhèn)萬(wàn)道路道滘段2號(hào)12號(hào)樓101室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型提供一種CVD化學(xué)氣相沉積法制備石墨烯薄膜專用支架，包括定位板和至少三根支撐桿，所述定位板平行相對(duì)設(shè)置有兩塊；兩所述定位板之間形成用于放置生長(zhǎng)基底的空間；所述支撐桿的末端與所述定位板連接，形成用于卷繞生長(zhǎng)基底的承托面；任意一根所述支撐桿上設(shè)置有用于固定所述生長(zhǎng)基底的固定件。本實(shí)用新型同時(shí)可以在多個(gè)承托面上生長(zhǎng)石墨烯，從而實(shí)現(xiàn)提高CVD法制備石墨烯薄膜的產(chǎn)能。同時(shí)由于支架的支撐作用，生長(zhǎng)基底不與石英管直接接觸，避免生長(zhǎng)基底在高溫反應(yīng)的過(guò)程中發(fā)生形變，提高產(chǎn)品的良品率。 |
