一種長晶爐工藝氣混氣氣道
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN202010998980.4 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN112191121A | 公開(公告)日 | 2021-01-08 |
| 申請公布號 | CN112191121A | 申請公布日 | 2021-01-08 |
| 分類號 | B01F5/04 | 分類 | 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置; |
| 發(fā)明人 | 李輝;葉迎海;毛瑞川 | 申請(專利權(quán))人 | 南京晶升裝備股份有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 南京蘇高專利商標事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 張弛 |
| 地址 | 211113 江蘇省南京市南京經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)紅楓科技園B4棟西側(cè) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種長晶爐工藝氣混氣氣道,包括座體、位于座體內(nèi)部的氣環(huán)、至少兩個進氣道、覆蓋在氣環(huán)上的封板;所述氣環(huán)包括圓柱形的側(cè)壁,位于側(cè)壁上端的一圈上圓環(huán)、位于側(cè)壁下端的一圈下圓環(huán);側(cè)壁、上圓環(huán)下表面、下圓環(huán)上表面與內(nèi)壁之間圍成環(huán)向氣道;所述上圓環(huán)設(shè)有與環(huán)向氣道貫通的若干上氣道,下圓環(huán)設(shè)有與環(huán)向氣道貫通的若干下氣道;各個上氣道及下氣道中噴出的工藝氣多次相互撞擊,實現(xiàn)較均勻的工藝氣混合。 |





